В израильском г. Кирьят-Гат началось строительство завода Intel
Американский производитель полупроводников Intel начал строительство завода по производству микросхем в израильском г.Новый завод станет вторым заводом Intel на территории Израиля и крупнейшим индустриальным проектом по объему инвестиций за всю историю страны. Объем вложений Intel в строительство завода составит порядка $4 млрд. Правительство Израиля согласилось предоставить грант в размере $525 млн. на поддержку этого проекта.
Новый завод Intel начнет работу со второй половины 2008 г. и будет производить микросхемы по технологии, позволяющей уменьшить размеры готового изделия в 2 раза по сравнению с нынешними стандартными 90-нанометровыми микросхемами. По словам руководства компании, строительство нового предприятия создаст около 4,4 тыс. новых рабочих мест.