зе литографии так называемого глубокого ультрафиолетового спектра (Extreme Ultraviolet Lithography, EUV). Одновременно компания анонсировала планы по выпуску первых чипов по техпроцессу N5 с но

тнее сотрудничество в сфере литографии, включив в него процесс на основе литографической технологии EUV (фотолитография в глубоком ультрафиолете). Этот процесс будет использоваться для производ

обного рабочего образца микросхемы, в которой первый слой металлических соединений создан с помощью EUV-литографии (литографии с использованием жесткого ультрафиолетового излучения). Предыдущие

обного рабочего образца микросхемы, в которой первый слой металлических соединений создан с помощью EUV-литографии (литографии с использованием жесткого ультрафиолетового излучения). Предыдущие

Аппарат EUV Micro Exposure Tool (MET) и установка пилотной производственной линии по нанесению EUV

Аппарат EUV Micro Exposure Tool (MET) и установка пилотной производственной линии по нанесению EUV

Extreme Ultra Violet LLC (EUV), коалиция национальных лабораторий США, таких как Lawrence Livermore National Laboratories и Sandia National Laboratories, а также крупнейших производителей чипов, таких как Intel, AMD и т

Германская Infineon Technologies стала первым европейским членом консорциума EUV LLC (Extreme Ultraviolet Limited Liability Corporation). Консорциум был основан в 1997 году компаниями Intel, Motorola и AMD и занимается совместными разработками в области применения преде