Разделы

Новая технология производства микросхем от Samsung позволит преодолеть барьер в 0,10 микрон

Компания Samsung Electronics Co. Ltd. заявила, что ей была разработана новая фоторезистивная технология для производства микросхем - 193 нм фторид-аргонная (ArF) литография. Фторид аргона - это материал, из которого изготавливается источник света для экспонирования подложки при литографии. По словам компании, новая технология позволит выпускать микросхемы с минимальным геометрическим размером 0,10 микрон и ниже. Этого достаточно, например, для производства микросхем памяти ёмкостью более 1 Гбит. В настоящее время Samsung подала заявки на патентование своей технологии в патентные организации девяти стран, включая США, Японию и Тайвань.



Будущее IT и цифровых коммуникаций обсудят на Толк Шоу Будущее IT и цифровых коммуникаций обсудят на Толк Шоу

erid: 2W5zFH93NQ8

Рекламодатель: Акционерное общество «Производственная фирма "СКБ Контур"

ИНН/ОГРН: 6663003127/1026605606620