Разделы

Ведется разработка 0.05-микронной технологии изготовления чипов SCALPEL

Группа компаний-производителей полупроводниковых элементов заключили совместное соглашение направленное на ускорение развитие новой технологии SCALPEL. Эта новая электронная литографическая технология применяемая в производстве микросхем должна прийти на смену современной оптической литографии. Использование электронных пучков вместо лучей света позволит содавать чипы с размером элементов 0.05 микрон. Сегодня пределом является 0.18 микрон. В группу компаний разработчиков вошли: Lith LLC, совместное предприятие Applied Materials, Inc. и ASM Lithography Holding N.V.; Lucent Technologies Inc.; Motorola Semiconductor Products Sector; Samsung Electronics Co., Ltd.; и Texas Instruments Incorporated (TI).